China desarrolla el equipamiento necesario para producir sus obleas a una litografía de 28nm

Parece que a Estados Unidos el veto a China no le saldrá nada rentable mirando al futuro, y es que si bien ha generado un gran impacto negativo en la industria china, a la larga saldrá perdiendo, por lo que sólo ha conseguido que ahora China haya iniciado una carrera invirtiendo más dinero en sus fundiciones para acortar los tiempos de desarrollo de las tecnologías de vanguardia, e incluso están fabricando su propia maquinaria para dar vida a todas las obleas necesarias para producir sus chips.

Shanghai Micro Electronic Equipment (SMEE) ha sido la compañía china que ha desarrollado un escáner de litografía ultravioleta profundo (DUV) de 28nm que está programado para ser entregado durante el cuarto trimestre de 2021. Aunque no es el nodo más avanzado disponible hasta la fecha, es un comienzo significativo para la independencia tecnológica de China.

ASML, el productor de tales escáneres, solía ser una de las pocas opciones allí, sin embargo, ahora acaba de ganarse a un duro competidor, ya que todas las fundiciones que necesiten un proceso de fabricación poco avanzado pueden recurrir a los 28nm DUV de SMEE en vez de comprar la maquinaria a la compañía holandesa.

Obviamente, SMEE no se ha parado aquí, seguirá desarrollando la maquinaria necesaria ya producir obleas de menor tamaño.

vía: Tom's Hardware